안녕하세요?
AI 시대가 성큼 다가 왔습니다. 제조 현장에 AI를
도입하려는 많은 시도가 이루어지고 있습니다. AI활용 제조 프로젝트는 AI구색을 갖추는 것이 중요한 것이 아니라, 실질적으로 지속 가능한
QCD 개선이 이루어 졌느냐가 더 중요합니다. 도메인 지식없이, 즉 공정 문제를 이해하지 못하고, 오직 데이터 분석이나 AI도구 만으로 접근하여 흉내 만 내는 AI모델링 사례가 많습니다.
어려운 파이썬을 활용하지 않고 데이터 전처리, 탐색적 분석, 모델링, 예측 및 최적화를 할 수 있는 것이 JMP의 강점입니다. 현장 문제를 잘알고 있는 공정엔지니어나 연구원, 실무 담당자들이 배워서 적용할 수 있는 도구가 JMP입니다. 제조 현장의 다양한 Big Data를 활용하여 실질적인 QCD 개선을 달성하는 제조 AI모델링 과정에 참여하여 제조 현장 문제해결의
전문가가 되시기 바랍니다.
1) 교육 시간표
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시간 |
1일차 09:00~17:00(7시간) |
2일차 09:00~17:00(7시간) |
3일차 09:00~17:00(7시간) |
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1 |
I.
제조 AI모델링 개요 |
제조
AI모델링 개요 / IPAIS 단계별 활동 |
III.
탐색적 분석 |
Fit
Y by X, Control Chart Builder / 이상치 및 결측치 탐색 |
VI.
AI 모델링 |
Generalized
Regression(Lasso, Elastic Net, Ridge) |
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2 |
II.
데이터 수집 및 전처리 |
과제 정의 및 데이터 수집 |
IV.
AI 모델링 |
다중회귀
/ Logistic 회귀 |
Bootstrap
Forest, Boosted Tree |
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3 |
데이터 형식 변경, 파생변수 생성 |
GLM
/ Mixed Model / Loglinear Variance |
KNN,
Naïve Bayes, SVM, |
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4 |
자료 배열 변경, 요약 |
Neural
Network / Decision Tree |
VII.
시계열 모델링 |
Time
Series 모델링 개요 |
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5 |
자료 분리 및 통합 |
V.
AI 모델링 |
주성분분석(PCA) / 요인분석(FA) / Cluster Variables |
ARIMA
모형 / Seasonal ARIMA
모형 |
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6 |
III.
탐색적 분석 |
시각적 분석(그래프 빌더, 필터, 열변환기
활용 등) |
다중대응분석(MCA), Discriminant(판별), PLS |
VIII.
예측 및 최적화 |
Profiling
최적화 및 Simulation |
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7 |
다변량
Distribution 분석, Process Screening |
Clustering(군집분석), LCA(Latent
Class Analysis) |
Design
Space 결정을 위한 DOE와 연계 |
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2) 일정 / 장소
2026년 6월 22, 23, 24일 / 코지모임공간 강남역2 교육장
3) 참가준비 및 비용
- JMP 18, 19 버전 준비
- 66만원(VAT 포함) / 대학생은 40만원
- 교재 및 중식을 제공합니다.
- 교육 후 "JMP활용 전문가 2급(CDAJ-II)" 자격 시험을 무료로 응시할 수 있습니다.
4) 교육 문의
배용섭 박사(010-3748-7605) / (주)이노밸류파트너즈
대표
이메일 : ysbae1218@gmail.com
홈페이지 : www.innovalue.co.kr
감사합니다.
배용섭 드림






